陈宇不是很懂技术，但却知道，这是决定未来光刻机命运的时刻。

在前世2008年之后，全球90以上生产出来的芯片，用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。并且，也正因为林本艰提出了这个湿式工艺，这才将芯片从190纳米，一路做到了130纳米，90纳米，65纳米，40纳米，28纳米，20纳米，16纳米，10纳米，7纳米，和5纳米。甚至，连最为尖端的3纳米，采用的都是林本艰的湿式光刻技术。

“这个，说不准，理论上有可能，但里面还存在着一系列要解决的问题。比如，水会不会产生汽泡，水会不会污染设备，要怎么做防水，水遇热会膨胀，折射率会改变，这又怎么解决……”

张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。

只是，这个时候，陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。

他知道。

未来若干年之后，这一切的问题都不会成为问题。

如果抓住这个林本艰，那么，中国光刻机就有希望了。

第0711章 搞一个“拍一拍”功能

“张总，如果我将这个林本艰挖过来，有希望吗？”

“不会吧。”

“怎么，不可以挖吗？”

“可是可以挖，但他才刚刚将这个理论搞出来，最终能不能做出那可不一定。”

张如京对陈宇劝道：“你又不是不知道，很多时候理论到实现有的时候得几十年，有的甚至需要几百年的时间。”

“况且，就算是可以做出来，也未必能推动这一项工艺？”

“为什么？”